上海微电子28nm光刻机问世 或于明年正式交付

在上海微电子的努力下,国产光刻机终于迎来了重大突破。

近日,上海微电子宣布,将于2021年至2022年交付国产第一台28 nm的immersion式光刻机。虽然从工艺制成上来讲,与ASML还有巨大的差距,但从上海微电子自身角度而言,这已是巨大的进步了,此前上海微电子最先进的工艺是90nm光刻机。

据悉,上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商。在国内封测用光刻机市场,其市场占有率高达80%,全球市场占有率达40%。公司LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先,LED光刻机市占率第一。

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