【字谜科技讯】6月11日消息，据日经新闻报道，日本半导体制造设备企业东京电子（Tokyo Electron）6月8日发布计划称，将向同行业的荷兰ASML和比利时的研究机构imec联合运营的实验室供应新一代设备，用于新一代“EUV（极紫外）光刻设备”。

据悉，东京电子将提供在半导体晶圆上涂布感光剂（光刻胶）使之显影的“涂布显影设备(Coater Developer)”。双方将把ASML的新一代EUV光刻设备和东京电子的涂布显影设备组合为一体，提高半导体的生产效率。东京电子最早将于2022年上半年提供自己的设备，组合起来的设备则计划最快于2023年投入使用。

目前，“5纳米芯片”已投入量产。下一代“3纳米芯片”的开发正在推进，台积电计划2022年下半年启动量产。此次开发的新一代EUV光刻设备将支持这种“3纳米芯片”之后的量产。