在上海微电子的努力下，国产光刻机终于迎来了重大突破。

近日，上海微电子宣布，将于2021年至2022年交付国产第一台28 nm的immersion式光刻机。虽然从工艺制成上来讲，与ASML还有巨大的差距，但从上海微电子自身角度而言，这已是巨大的进步了，此前上海微电子最先进的工艺是90nm光刻机。

据悉，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商。在国内封测用光刻机市场，其市场占有率高达80%，全球市场占有率达40%。公司LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。