苏大维格：公司技术在微纳光学材料和部分光刻设备上实现量产

【紫米财经】7月31日，苏大维格在互动平台表示，公司作为国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——直写光刻、投影式光刻及纳米压印光刻设备等，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系，并不断开发微纳光学技术在新领域的应用。公司技术已在微纳光学材料（3D印材和防伪、各类导光材料、透明导电材料、纳米纹理光学膜等）和部分光刻设备上实现了量产，后续将重点拓展上述技术在光伏铜电镀图形化设备、AR/AR-HUD波导镜片等领域的建设与投资，并将适时布局VR/AR光学器件、裸眼3D显示、微纳3D打印、光子芯片等产品。

苏州苏大维格科技集团股份有限公司致力于微纳关键技术、柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用，涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示（大尺寸电容触控屏，超薄导光板）、高端智能微纳装备（纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等）的研发与产业化， 2012年6月28日在深交所A股创业板深上市，发行股票1,550.00万股，发行价每股20.00元，共募集资金3.10亿元。