苏大维格:公司光刻机光栅尺周期精度小于1nm

【紫米财经】9月7日,苏大维格在互动平台表示,制程越先进,光刻机光栅尺的周期精度要求越高,如28nm制程的光刻机要求的光栅尺周期精度小于2nm。公司相关产品周期精度小于1nm,鉴于保密信息,详细参数暂不便透漏。

苏州苏大维格科技集团股份有限公司致力于微纳关键技术、柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用,涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示(大尺寸电容触控屏,超薄导光板)、高端智能微纳装备(纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等)的研发与产业化, 2012年6月28日在深交所A股创业板深上市,发行股票1,550.00万股,发行价每股20.00元,共募集资金3.10亿元。

发表评论

您必须 [ 登录 ] 才能发表留言!

相关文章